
ウェハ製造と高度な半導体パッケージング
バックエンド半導体プロセスのための高度なマイクロ電気機械パッケージング
半導体のフロントエンドプロセスの精度はナノメートルレベルであり、それはナノエレクトロメカニカルの領域に属しています。Hortechはマイクロン精度に特化しており、先進的なパッケージング産業よりも先行しています。後者はマイクロンレベルの精度に焦点を当てています。
スルーガラスビア(TGV)技術によるレーザー切断光学ガラス&光学アクリル
Hortechは、光学ガラスと光学アクリルを切断するためにレーザー技術を使用し、滑らかで平らなエッジを実現しています。バリはありません。
詳細先進的な半導体パッケージングのためのスルーグラスビア(TGV)
Hortechは、自己開発したレーザー機械を使用して集積回路ガラス基板を改良し、高アスペクト比のスルーグラスビアを製造しています。
詳細水ジェットレーザー機によるゲルマニウム(Ge)ウエハのマイクロビアとマイクロブラインドホールのマイクロドリリング
ホーテックは水ジェットレーザー機を使用してゲルマニウム(Ge)ウエハ上にマイクロビアとマイクロブラインドホールを生成します。直径は200µmです。
詳細水ジェットレーザー機による複雑なセラミック味の素ビルドアップフィルム(ABF)PCBのレーザードリルマイクロビア
Hortechは水ジェットレーザー機械を使用して、複雑なセラミックABF PCB上に貫通および盲孔ビアを作成するためのレーザー微細ドリリングを行います。この技術は、先進的な基板をドリルまたはパンチするために適用でき、他のプロセスと組み合わせることができます。 写真に示されているマイクロビアの直径は250um、300um、500umです。マイクロビアは密に表示されています。ご要望に応じて、直径、形状、パターンに基づいてマイクロビアのパターン作成や異なるタイプのマイクロビアのドリルを行うことができます。
詳細水ジェットレーザー機械による精密切断された炭化ケイ素(SiC)ウエハ
Hortechは、水ジェットレーザー機械を使用してシリコンカーバイド(SiC)ウエハをレーザー切断します。切断プロセス中に熱効果や熱は発生しません。エッジは滑らかで平坦です。このシリコンカーバイド(SiC)ウエハの厚さは0.43...
詳細水ジェットレーザー機械によるマイクロテクスチャー化/マイクロストラクチャー化されたシリコン(Si)ウエハ
Hortechは、水ジェットレーザー機械を使用してシリコンウエハ上に微細テクスチャ/微細構造を作成し、精密レーザー切断を行います。このシリコンウエハの厚さは650umです。溝の幅は約200umです。溝の深さは約200umです。
詳細水ジェットレーザーマシンによるシリコンウエハダイシング
Hortechはスイスのメーカーと協力して、ウエハダイシングを行うことができる水ジェットレーザーマシンを発売します。写真はシリコンウエハのダイシングを示しています。厚さは650umです。
詳細ウェハ製造と高度な半導体パッケージング | レーザー加工サービス&カスタム設計機械メーカー | Hortech Co.
2006年以来、台湾に拠点を置くHortech Companyは、精密なレーザー加工サービスとカスタム設計された機械を提供するメーカーです。 そのコア技術には、ウェーハ製造と高度な半導体パッケージング、レーザー微細エッチング、マイクロドリリング、マイクロカッティング、レーザー彫刻が含まれます。 工場自動化やロボット工学用の光学スケール、防衛産業用の超微細レチクル、半導体産業用のウェハダイシングやドリリングなど、さまざまな産業向け製品の開発に成功しています。 HortechのレーザーOEM/ODMサービスは、世界中の産業パートナーにご利用いただいています。
Hortech Companyは2016年にDr. Owen Chun Hao Liによって設立されました。 2018年、台湾の回路メーカー向けに医療回路基板のトレーサビリティに使用されるレーザーマーキングシステムを開発しました。 2017年にシンガポールのメーカー向けにトリプル波長レーザー組み合わせ加工システムを開発しました。 2019年以来、エンコーダーとアクチュエーターのために高精度な磁気および光学スケールのさまざまなタイプを製造しています。 Hortechは、レーザーマシンをアップグレードし、さまざまな地域でサービスを拡大し続けています。 厳格な品質管理プロセスにより、クライアントのニーズを満たすことが保証されています。
Hortech Co.は2006年以来、先進技術と27年の経験を持つ超精密レーザー加工サービスとレーザーCNCマシンを提供しています。Hortech Co.はお客様の要求を満たすことを保証します。