バックエンド半導体プロセスのための高度なマイクロ電気機械パッケージング | レーザー加工サービス&カスタム設計機械メーカー | Hortech Co.

高度なパッケージングの精度自社開発の特許取得済みの精密レーザーシステムと機械、最適なプロセス、統合されたレーザーおよび光メカトロニクス技術。

高度なパッケージングの精度

ウェハ製造と高度な半導体パッケージング

バックエンド半導体プロセスのための高度なマイクロ電気機械パッケージング

半導体のフロントエンドプロセスの精度はナノメートルレベルであり、それはナノエレクトロメカニカルの領域に属しています。Hortechはマイクロン精度に特化しており、先進的なパッケージング産業よりも先行しています。後者はマイクロンレベルの精度に焦点を当てています。


ウェハ製造と高度な半導体パッケージング

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レーザー切断ガラスウェハー - Hortechはレーザー切断技術を用いてガラスウェハーを切断します。
レーザー切断ガラスウェハー

ガラスウェハーはHortechのレーザー切断技術によって形成されます。

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スルーガラスビア(TGV)技術によるレーザー切断光学ガラス&光学アクリル - Hortechは、光学ガラスと光学アクリルを切断するためにレーザー技術を使用し、滑らかで平らなエッジを実現しています。
スルーガラスビア(TGV)技術によるレーザー切断光学ガラス&光学アクリル

Hortechは、光学ガラスと光学アクリルを切断するためにレーザー技術を使用し、滑らかで平らなエッジを実現しています。バリはありません。

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先進的な半導体パッケージングのためのスルーグラスビア(TGV) - ICガラス基板のレーザー改良による高アスペクト比のスルーグラスビア
先進的な半導体パッケージングのためのスルーグラスビア(TGV)

Hortechは、自己開発したレーザー機械を使用して集積回路ガラス基板を改良し、高アスペクト比のスルーグラスビアを製造しています。

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水ジェットレーザー機によるゲルマニウム(Ge)ウエハのマイクロビアとマイクロブラインドホールのマイクロドリリング - ホーテックはゲルマニウム(Ge)ウエハ上にマイクロビアとマイクロブラインドホールを生成するためにレーザーマイクロドリリングを行います。直径は200µmです。
水ジェットレーザー機によるゲルマニウム(Ge)ウエハのマイクロビアとマイクロブラインドホールのマイクロドリリング

ホーテックは水ジェットレーザー機を使用してゲルマニウム(Ge)ウエハ上にマイクロビアとマイクロブラインドホールを生成します。直径は200µmです。

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水ジェットレーザー機による複雑なセラミック味の素ビルドアップフィルム(ABF)PCBのマイクロカット - ホーテックは水ジェットレーザー機を使用して複雑なセラミックABF PCBをレーザーマイクロカットします。切断の精度は< +/- 3-7 %です。
水ジェットレーザー機による複雑なセラミック味の素ビルドアップフィルム(ABF)PCBのマイクロカット

ホーテックは水ジェットレーザー機を使用して複雑なセラミックABF...

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水ジェットレーザー機による複雑なセラミック味の素ビルドアップフィルム(ABF)PCBのレーザードリルマイクロビア - Hortechは、水ジェットレーザー機械を使用して複雑なセラミックABF PCB上にマイクロビアパターンを生成するためにレーザーマイクロドリリングを行います。貫通ビアとブラインドビアの両方を生成できます。写真に示されているマイクロビアの直径は、250um、300um、500umを含みます。
水ジェットレーザー機による複雑なセラミック味の素ビルドアップフィルム(ABF)PCBのレーザードリルマイクロビア

Hortechは水ジェットレーザー機械を使用して、複雑なセラミックABF PCB上に貫通および盲孔ビアを作成するためのレーザー微細ドリリングを行います。この技術は、先進的な基板をドリルまたはパンチするために適用でき、他のプロセスと組み合わせることができます。   写真に示されているマイクロビアの直径は250um、300um、500umです。マイクロビアは密に表示されています。ご要望に応じて、直径、形状、パターンに基づいてマイクロビアのパターン作成や異なるタイプのマイクロビアのドリルを行うことができます。

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水ジェットレーザー機械による精密切断された炭化ケイ素(SiC)ウエハ - Hortechは水ジェットレーザー機械を使用して炭化ケイ素(SiC)ウエハを切断します。エッジは平らで滑らかです。熱効果や熱はありません。
水ジェットレーザー機械による精密切断された炭化ケイ素(SiC)ウエハ

Hortechは、水ジェットレーザー機械を使用してシリコンカーバイド(SiC)ウエハをレーザー切断します。切断プロセス中に熱効果や熱は発生しません。エッジは滑らかで平坦です。このシリコンカーバイド(SiC)ウエハの厚さは0.43...

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水ジェットレーザー機械によるマイクロテクスチャー化/マイクロストラクチャー化されたシリコン(Si)ウエハ - Hortechは水ジェットレーザー機械を使用してシリコンウエハを切断し、マイクロテクスチャー/マイクロストラクチャーを作成します。
水ジェットレーザー機械によるマイクロテクスチャー化/マイクロストラクチャー化されたシリコン(Si)ウエハ

Hortechは、水ジェットレーザー機械を使用してシリコンウエハ上に微細テクスチャ/微細構造を作成し、精密レーザー切断を行います。このシリコンウエハの厚さは650umです。溝の幅は約200umです。溝の深さは約200umです。

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水ジェットレーザーマシンによるシリコンウエハダイシング - Hortechは水ジェットレーザーマシンを使用してSiウエハダイシングを行います。
水ジェットレーザーマシンによるシリコンウエハダイシング

Hortechはスイスのメーカーと協力して、ウエハダイシングを行うことができる水ジェットレーザーマシンを発売します。写真はシリコンウエハのダイシングを示しています。厚さは650umです。

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炭化ケイ素(SiC)ウエハダイシング - SiCウエハレーザーダイシング
炭化ケイ素(SiC)ウエハダイシング

Hortechは、高速でSiCウェハのダイシングを実施できる超高速レーザーマシンを開発しました。...

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レーザー彫刻されたウェハID - レーザーで彫刻されたウェハ識別子
レーザー彫刻されたウェハID

Hortechは、半導体機器が読み取り識別できるように、ウェハ上にSEMIフォントを彫刻します。これはウェハ製造の最初のプロセスです。

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ウェハレーザー微細彫刻 - レーザーを使用して、ウェハ上のSEMIフォントを正確な位置に彫刻します。
ウェハレーザー微細彫刻

半導体ウェハーを処理する前に、各ウェハーを正確に識別し追跡するために、ウェハーに...

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ウェハ製造と高度な半導体パッケージング | レーザー加工サービス&カスタム設計機械メーカー | Hortech Co.

2006年以来、台湾に拠点を置くHortech Companyは、精密なレーザー加工サービスとカスタム設計された機械を提供するメーカーです。 そのコア技術には、ウェーハ製造と高度な半導体パッケージング、レーザー微細エッチング、マイクロドリリング、マイクロカッティング、レーザー彫刻が含まれます。 工場自動化やロボット工学用の光学スケール、防衛産業用の超微細レチクル、半導体産業用のウェハダイシングやドリリングなど、さまざまな産業向け製品の開発に成功しています。 HortechのレーザーOEM/ODMサービスは、世界中の産業パートナーにご利用いただいています。

Hortech Companyは2016年にDr. Owen Chun Hao Liによって設立されました。 2018年、台湾の回路メーカー向けに医療回路基板のトレーサビリティに使用されるレーザーマーキングシステムを開発しました。 2017年にシンガポールのメーカー向けにトリプル波長レーザー組み合わせ加工システムを開発しました。 2019年以来、エンコーダーとアクチュエーターのために高精度な磁気および光学スケールのさまざまなタイプを製造しています。 Hortechは、レーザーマシンをアップグレードし、さまざまな地域でサービスを拡大し続けています。 厳格な品質管理プロセスにより、クライアントのニーズを満たすことが保証されています。

Hortech Co.は2006年以来、先進技術と27年の経験を持つ超精密レーザー加工サービスとレーザーCNCマシンを提供しています。Hortech Co.はお客様の要求を満たすことを保証します。